依據(jù)美國(guó)聯(lián)邦政府頒布的標(biāo)準(zhǔn)[Federal Standard (FS) 209E, 1992],可將無(wú)塵室分為六級(jí)。
分別是1級(jí)、10級(jí)、100級(jí)、1000級(jí)、10000級(jí)、100000級(jí)。
如果無(wú)塵室的等級(jí)只用塵粒數(shù)目來(lái)敘述,則可假設(shè)塵粒的尺寸為0.5μm,例如,1級(jí)、10級(jí)、100級(jí)無(wú)塵室最大塵粒數(shù)目分別小于或等于1顆、10顆、100顆,如果塵粒尺寸不是0.5μm,無(wú)塵室等級(jí)應(yīng)以在一特定塵粒尺寸的級(jí)數(shù)來(lái)表示。
例如:10級(jí)在0.2μm(塵粒尺寸在0.2μm或更大下,密度不大于75顆/立方英),1級(jí)在0.1μm(塵粒尺寸在0.1μm或更大下,密度不大于35顆/立方英)而集成電路制造所需的無(wú)塵室之潔凈度必須優(yōu)于1000級(jí)。
為保持無(wú)塵室的潔凈度,進(jìn)出的人員有一定的穿著規(guī)定;10000與100000級(jí),必須穿著長(zhǎng)袍無(wú)塵衣、無(wú)塵鞋、帶帽子與面罩;1000級(jí)(含)以上,需穿著特殊的潔凈連身衣、無(wú)塵鞋將全身裹住,并帶上手套和面罩,下表為無(wú)塵室清潔度的定義:
所謂的無(wú)塵室是一個(gè)人造的環(huán)境,里面含有的粒子遠(yuǎn)低于一般的環(huán)境,隨著集成電路技術(shù)的快速成長(zhǎng),也增加了對(duì)制造環(huán)境(無(wú)塵室)潔靜度的需求,在工業(yè)上即使粒子之尺寸小于1微米,也可能阻礙產(chǎn)品的運(yùn)作或降低其壽命。
由于奈米技術(shù)的興起,造成半導(dǎo)體關(guān)鍵尺寸持續(xù)縮小,集成電路積集度不斷的增加,塵粒更容易使芯片失效或可靠度惡化。例如當(dāng)金屬塵粒地落到金屬導(dǎo)線時(shí),就可能會(huì)使金屬導(dǎo)線形成短路。又如果有酸性的離子化合物塵粒掉在金屬導(dǎo)線上,可能將其腐蝕,所以無(wú)塵室為集成電路制造不可或缺的要素。
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